崗位職責：

1. 負責黃光光刻工藝開發與優化，維護勻膠、曝光、顯影生產線的日常穩定，處理工藝異常，確保光刻膠的厚度均勻性、關鍵尺寸（CD）精度、套刻精度及圖形完整性符合設計規格。負責新產品的光刻工藝導入，制定并優化標準作業流程（SOP）及工藝參數表；
2. 負責光刻核心設備的操作、工藝調試與日常監控（包括勻膠機/旋轉涂布機、光刻機/光罩對準曝光機、熱板、顯影機）。參與光刻設備的驗收、季度維護及簡單故障排查。負責光刻版（掩模版/Mask）的管理、清潔檢查與生命周期監控；
3. 針對光刻工藝中常見的缺陷（如涂膠不均勻、條紋、顆粒沾污、顯影不凈、套刻偏差）進行根本原因分析，并提出改善方案。建立光刻參數與光學性能的關聯模型，持續提升良率；
4. 編制工藝報告、實驗設計（DOE）報告及8D改善報告。培訓技術員及操作員，確保黃光區工藝紀律及潔凈室行為符合規范；
5. 具備基礎的統計學知識（SPC統計過程控制、DOE實驗設計），并能運用相關軟件（如JMP, Minitab）分析數據。

任職要求：

1. 學歷與專業：本科及以上學歷，光學、微電子、材料物理、半導體物理、應用化學等相關專業；
2. 核心能力：具有較好的邏輯思維能力、數學思維能力、學習溝通能力及承壓能力；
3. 職業素養：具備良好團隊協作意識、對工作負責，積極主動，結果導向，具備實戰精神；
4. 工具與語言：熟練運用OFFICE辦公軟件；具備較好英文溝通能力、英文讀寫能力。

加分項：

1. 光電設計大賽、物理實驗競賽等經歷，制作過實物作品；
2. 知名企業生產制造相關的實習經歷；
3. 熟悉ISO9001或IATF16949質量體系，具備FMEA失效模式與影響分析編寫經驗；
4. 有黃光區（光刻）交叉工作經驗，能獨立操作勻膠機和光刻機。