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炬光科技榮獲2026 CFCF光連接大會年度產(chǎn)品創(chuàng)新獎,以晶圓級制造賦能AI時代高密度光互連
發(fā)布日期:2026-06-30
近日,第十一屆光連接大會(CFCF 2026)成功落下帷幕。在本屆大會“2026光通信最具影響力評選”中,炬光科技憑借晶圓級同步結(jié)構(gòu)化V型槽技術(shù)榮獲“無源器件、材料及零部件年度產(chǎn)品創(chuàng)新獎”。這一獎項不僅是對炬光科技在高精度微納光學(xué)制造領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新能力的充分認(rèn)可,也彰顯了晶圓級制造工藝在AI時代高密度光互連與光子集成封裝領(lǐng)域的重要價值。

突破傳統(tǒng)制造方式,以晶圓級工藝實現(xiàn)高精度與規(guī)模化兼得
當(dāng)下數(shù)據(jù)中心、AI 計算快速普及,高通道密度光纖陣列的耦合精度與一致性正成為影響其性能與量產(chǎn)能力的核心難題。炬光科技晶圓級同步結(jié)構(gòu)化V型槽技術(shù)基于成熟的晶圓級生產(chǎn)體系,可一次性在同一晶圓上完成所有溝槽及對準(zhǔn)特征加工,從源頭消除傳統(tǒng)逐槽加工帶來的公差累積問題。即使在36、40及更多通道數(shù)下,從首根到末根光纖的累積間距誤差仍小于500nm。同時,該工藝支持同一產(chǎn)品內(nèi)設(shè)計V/U 型槽、凹凸曲面、自由曲面等多種復(fù)雜幾何結(jié)構(gòu),為高通道密度V型槽陣列制造提供了更加高效、精準(zhǔn)的解決方案。
面向AI高速互連,打造高可靠光封裝制造基礎(chǔ)
除精度及結(jié)構(gòu)設(shè)計優(yōu)勢外,該技術(shù)還兼容BF33、熔融石英、光學(xué)玻璃、硅等多種材料,可滿足不同光封裝場景的設(shè)計需求,并支持自動化裝配和96 通道及以上超大光纖陣列規(guī)模化生產(chǎn),為CPO、光通信模塊、低損耗PIC連接器等高速互連應(yīng)用提供可靠支撐。隨著AI算力持續(xù)提升,高密度光互連正迎來新一輪發(fā)展機遇。

炬光科技將持續(xù)深耕高精度微納光學(xué)制造技術(shù),以晶圓級創(chuàng)新工藝為核心,不斷推動高性能光通信與光子集成封裝技術(shù)發(fā)展,為下一代高速光互連產(chǎn)業(yè)注入持續(xù)創(chuàng)新動力。